半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。
集成電路芯片超純水設備原理
EDI超純水系統是利用混和離子交換樹脂吸附給水中的陰陽離子，被吸附的離子在直流電壓的作用下，分別透過陰陽離子交換膜而被除去的過程。電滲析器的一對電極之間，通常由陰膜、陽膜和隔板多組交替排列，構成濃室和淡室(即陽離子可透過陽膜、陰離子可透過陰膜)。淡室水中陽離子向負極遷移透過陽膜，被濃室中的陰膜截留，水中陰離子向正極方向遷移陰膜，被濃室中的陽膜截留，這樣通過淡室的水中離子數逐漸減少，成為淡水。而濃室的水中，由于濃室的陰陽離子不斷涌進，電介質離子濃度不斷升高，而成為濃水，從而達到淡化、提純、濃縮或精制的目的。這一過程離子交換樹脂是電連續再生的，因此不需要使用酸和堿對之再生。制取超純水的這一新技術可以替代傳統的離子交換裝置，生產出高達18M-CM的超純水。
集成電路芯片超純水設備優勢及特點
1、工作壓力高，不漏水：由于模塊采用了橡膠O型圈多層密封，保證了模塊耐壓高、不漏水。
2、無化學物質使用：由于濃水中填充了技術樹脂，降低了膜電阻，因此系統中不需要濃水循環及注鹽在淡水室填充分層排列樹脂，更有利于弱電解質的祛除。
3、系統簡單，配管簡單，僅需3支配管(進水管，產品水管和濃水管)，無循環泵及注鹽系統，不需要PLC程序控制器，系統建造成本和維護費用低。
4、濃水回收，濃水水質(20-100μS/cm)優于原水水質，可回收至RO前繼續使用。
5、其他優勢，系統不注鹽，因此不產生氯氣破壞模塊內部結構及污染周圍環境，獨立的模塊電源控制，單一模塊需維修，不影響其他模塊正常工作。
EDI超純水系統的應用領域
EDI超純水系統適用于電子、半導體、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路、精密機械行業超純水，食品、飲料、飲用水的制備，精細化工、精尖學科用水，其他行業所需的高純水制備，制藥工業工藝用水，海水、苦咸水的淡化，制藥行業用水大輸液、針劑、片劑、生化制品、設備清洗等，海水、苦咸水淡化，汽車、家電涂裝、鍍膜玻璃、化裝品、精細化學品等用超純水。
